苏大维格拟不超5.1亿元收购常州维普不超51%股权

　　日前，苏大维格(300331.SZ)发布公告，公司拟筹划以现金方式收购常州维普半导体设备有限公司(简称“常州维普”)不超过51%的股权，收购完成后，预计实现对标的公司的控股。标的公司100%股权的整体估值暂定为不超过人民币10亿元，本次交易对价预计不超过人民币5.10亿元。
 

 

　　公告显示，常州维普是国内极少数在半导体光掩模缺陷检测设备领域已实现规模化量产的企业，其技术、产品和核心算法系正向自研开发，拥有自主知识产权，主要核心零部件实现了国产化和自主可控。标的公司产品已进入国内头部晶圆厂和国内外头部掩膜版厂商的量产线。
 

　　光掩模(Photomask)，又称掩模、(光刻)掩膜版，光罩等，是微电子制造过程中图形转移的母版，是半导体、平板显示等行业生产制造的关键核心材料。在光掩模缺陷检测设备领域，设备国产率不足 3%，国产替代尚在早期，空间巨大。
 

　　目前，苏大维格在高端智能装备领域，研发、生产和销售各类激光直写光刻机和纳米压印光刻机，其中以激光直写光刻机为主。激光直写光刻机是用于生产制造光掩模的核心设备之一，国内半导体企业所使用的激光直写光刻机主要为美国应用材料(Applied Materials)和瑞典迈康尼(Mycronic)等美欧企业所垄断，国产化率极低。
 

　　苏大维格一直致力于积极拓展激光直写光刻机在半导体掩模制造领域的量产应用和国产替代，潜在客户群体和常州维普现有客户体系基本重叠，收购常州维普，利用其现有客户资源，有利于大大减少公司的客户开发成本和产品验证周期。
 

　　此外，激光直写光刻机和掩模缺陷检测设备，在核心部件构成上相似度较高，均主要由光学系统、核心算法、软件系统、精密运动控制平台、电气电控系统等五部分组成。公司在光学系统、精密运动控制平台上有较深的技术积累，常州维普则在核心算法、软件系统、电气电控系统等方面有技术优势和量产经验。本次交易后，双方优势互补，有利于增强公司在直写光刻领域的研发实力，提高产品的迭代速度，提升设备的竞争力，加快国产替代的进程，实现公司的战略目标，同时积极响应国家在集成电路领域的发展规划。
 

　　苏大维格表示，本次签署的《股权收购意向协议》仅为公司与标的公司股东方达成的初步意向，本次股权收购事宜尚处于筹划阶段，在未完成相关审批程序、未实施完成股权收购事项之前，该筹划活动不会对公司生产经营和业绩产生重大影响。本次交易正式协议尚未签署，收购事项仍存在不确定性，暂时无法预计对公司经营业绩的影响。
 

　　2025年中期，苏大维格营业总收入9.82亿元，归母净利润3066.17万元。